Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Characterization of crystalline structure and morphology of Ga2O3 thin film grown by MOCVD technique

  • University of Latvia

Zinātniskās darbības rezultāts: Nodaļa grāmatā/enciklopēdijā/konferences krājumāKonferences zinātniskais rakstsPētniecībakoleģiāli recenzēts

3 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Growth of gallium oxide thin film was realized with MOCVD on (0001) sapphire substrate. Structural and compositional properties of thin film were studied employing trimethylgallium and water as precursors, carrier gases were H2 and N2. Obtained film is polycrystalline and predominantly consisted of (201) oriented β-Ga2O3. Sample exhibited blue luminescence which is attributed to oxygen vacancies. H2 gas proved to have beneficial effect on film quality and overall growth process.

OriģinālvalodaAngļu
Rīkotāja publikācijas nosaukumsEngineering Materials and Tribology XXV
IzdevējsTrans Tech Publications Ltd
Lapas253-257
Lapu skaits5
ISBN (Drukātā versija)9783035710724
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 2017
Pasākums25th International Baltic Conference of Engineering Materials and Tribology – BALTMATTRIB - Riga, Latvija
Ilgums: 3 nov. 20164 nov. 2016

Publikāciju sērijas

NosaukumsKey Engineering Materials
Sējums721 KEM
ISSN (Drukātā versija)1013-9826
ISSN (Elektroniskā versija)1662-9795

Konference

Konference25th International Baltic Conference of Engineering Materials and Tribology – BALTMATTRIB
Valsts/TeritorijaLatvija
PilsētaRiga
Periods3/11/164/11/16

OECD Zinātnes nozare

  • 1.3 Fizika un astronomija
  • 2.5 Materiālzinātne

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Characterization of crystalline structure and morphology of Ga2O3 thin film grown by MOCVD technique”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo