Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Current-voltage characteristic of n-p-p+ structures based on a chromium-compensated silicon-germanium solid solution

  • A. S. Saidov*
  • , A. Yu Leǐderman
  • , B. Sapaev
  • , S. Zh Karazhanov
  • , D. V. Saparov
  • *Šī darba korespondējošais autors
  • Academy of Sciences of the Republic of Uzbekistan

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

3 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Statistical currents in the n-p-p+ structures, synthesized on the basis of a chromium-compensated silicon-germanium solid solution, have been studied experimentally. The I-V characteristic of such structures was observed to have a section in which the current increases sublinearly with voltage V ≈ V0exp(JaW). The experimental results are explained on the basis of the theory of injection de;etion.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)550-551
Lapu skaits2
ŽurnālsSemiconductors
Sējums30
Izdevuma numurs6
Publikācijas statussPublicēts - jūn. 1996
Ārēji publicēts

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Current-voltage characteristic of n-p-p+ structures based on a chromium-compensated silicon-germanium solid solution”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo