Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Electrochromism in oxyfluoride thin films

  • A. Azens*
  • , A. Gutarra
  • , B. A. Stjerna
  • , Claes G. Granqvist
  • , J. Gabrusenoks
  • , Andrejs R. Lusis
  • *Šī darba korespondējošais autors

Pētījuma izpildes rezultāts: Nodaļa grāmatā/enciklopēdijā/konferences krājumāKonferences zinātniskais rakstsPētniecībakoleģiāli recenzēts

3 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Oxyfluoride films based on W and Ti were prepared by reactive sputtering in plasmas containing O2 + CF4. The deposition rate was large, particularly when chemical sputtering was promoted by heating the target. The films could show large charge insertion/extraction, high coloration efficiency, and good cycling durability.

OriģinālvalodaAngļu
Rīkotāja publikācijas nosaukumsProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
IzdevējsSociety of Photo-Optical Instrumentation Engineers
Lapas435-442
Lapu skaits8
ISBN (Drukātā versija)0819415642
Publikācijas statussPublicēts - 1994
Ārēji publicēts
PasākumsOptical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion XIII - Freiburg, Ger
Ilgums: 18 apr. 199422 apr. 1994

Publikāciju sērijas

NosaukumsProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
Sējums2255
ISSN (Drukātā versija)0277-786X

Konference

KonferenceOptical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion XIII
PilsētaFreiburg, Ger
Periods18/04/9422/04/94

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Electrochromism in oxyfluoride thin films”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo