Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Local structure relaxation in nanocrystalline Ni1 - XO thin films

  • University of Latvia

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

7 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Non-stoichiometric nickel oxide (Ni1 - xO) thin films were prepared by DC magnetron sputtering technique in mixed Ar/O2 atmosphere and studied by synchrotron radiation Ni K-edge x-ray absorption spectroscopy, x-ray diffraction and scanning electron microscopy. The use of advanced modelling technique, combining classical molecular dynamics with ab initio multiple-scattering extended x-ray absorption fine structure calculations, allowed us to describe the structure relaxation and dynamics in nanocrystallites and to estimate their size and the concentration of nickel vacancies.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)58-62
Lapu skaits5
ŽurnālsThin Solid Films
Sējums553
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 28 febr. 2014

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Local structure relaxation in nanocrystalline Ni1 - XO thin films”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo