Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Measurements of SiO2 glass surface parameters by methods of microscopy

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālam › Konferences zinātniskais raksts › koleģiāli recenzēts

1 Atsauce (Scopus)

Kopsavilkums

In this research we compare chemical and plasma treatment methods for surface of SiO2 glass. For chemical treatment of surface tequila and alcohol were used but for plasma treatment - Ar+As and Ar+Se plasmas. Surface topography was analyzed using atomic force microscope. Comparison of chemical and plasma treatment methods shows that surface treated with plasma is smoother. Because of their various chemical compositions tequila and alcohol show different results.

OriģinālvalodaAngļu
Raksta numurs012043
ŽurnālsIOP Conference Series: Materials Science and Engineering
Sējums38
Izdevuma numurs1
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 2012
PasākumsInternational Conference on Functional Materials and Nanotechnologies, FM and NT 2012 - Riga, Latvija
Ilgums: 17 apr. 2012 → 20 apr. 2012

OECD Zinātnes nozare

  • 1.3 Fizika un astronomija
  • 2.5 Materiālzinātne

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Measurements of SiO2 glass surface parameters by methods of microscopy”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo