Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Open-circuit voltage decay transient in dislocation-engineered Si p-n junction

  • Academy of Sciences of the Republic of Uzbekistan
  • Institute for Energy Technology

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

19 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

This work presents a study of an open-circuit voltage decay transient in dislocation-engineered Si p-n junctions. It is found that upon switching off the illumination the open-circuit voltage decreases with time according to the exponential function, whereas the excess carrier concentration decreases with time according to the double exponential function. This result indicates that the dislocation-engineered Si p-n junctions are sensitive to variations of the band-to-band illumination intensity. It is found that the carrier lifetime and open-circuit voltage can be modulated by ultrasound treatment.

OriģinālvalodaAngļu
Raksta numurs165107
ŽurnālsJournal of Physics D: Applied Physics
Sējums41
Izdevuma numurs16
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 21 aug. 2008
Ārēji publicēts

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Open-circuit voltage decay transient in dislocation-engineered Si p-n junction”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo