Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Patterned laser crystallization of a-Si

  • B. Polyakov*
  • , G. Marcins
  • , M. Chubarov
  • , A. Kuzmin
  • , V. Klykov
  • , I. Tale
  • *Šī darba korespondējošais autors
  • University of Latvia
  • Sidrabe Inc.

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

2 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Thin films of amorphous Si on glass were crystallized by pulsed nano- and picosecond lasers. Two methods for creating the desired patterns of crystallized regions were used. In the former, the pattern is produced by a focused laser beam, and in the latter it is made using a prefabricated mask. The electric conductivity of crystallized films increases by more than 4 orders of magnitude in comparison with untreated amorphous films.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)50-54
Lapu skaits5
ŽurnālsLatvian Journal of Physics and Technical Sciences
Sējums46
Izdevuma numurs3
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 1 janv. 2009

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Patterned laser crystallization of a-Si”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo