Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Preparation and characterization of tin tungstate thin films

Pētījuma izpildes rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

10 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Tin tungstate thin films were prepared by dc magnetron sputtering method and studied by x-ray diffraction, confocal microscopy and Raman spectroscopy. It is shown that the films are composed mainly of nanocrystalline α-SnWO4 phase. The possibility to use these films as write-once optical recording media is demonstrated.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)49-54
Lapu skaits6
ŽurnālsFerroelectrics
Sējums484
Izdevuma numurs1
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 5 aug. 2015

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Preparation and characterization of tin tungstate thin films”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo