Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Surface dissolution and diffusion of oxygen molecules in SiO2 glass

  • Koichi Kajihara*
  • , Taisuke Miura
  • , Hayato Kamioka
  • , Masahiro Hirano
  • , Linards Skuja
  • , Hideo Hosono
  • *Šī darba korespondējošais autors
  • Japan Science and Technology Agency
  • RIKEN
  • Institute of Science Tokyo

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

53 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Surface dissolution and diffusion of oxygen molecules (O2) in SiO2 glass were studied by their photoluminescence at 1272 nm excited with a titanium sapphire laser oscillating at 765 nm. The dissolution of O 2 from ambient atmosphere at both surfaces was much faster than the following diffusion of O2 into SiO2 glass, indicating that the surface dissolution is not the rate-limiting step for the saturation of SiO2 glass with O2. The time- and temperature-dependent concentration changes of O2 allow to evaluate the diffusion coefficient and the saturation solubility of O2 in SiO2 glass.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)559-562
Lapu skaits4
ŽurnālsJournal of the Ceramic Society of Japan
Sējums112
Izdevuma numurs1310
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - okt. 2004

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Surface dissolution and diffusion of oxygen molecules in SiO2 glass”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo