Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

The adsorption of SiO molecules on MgO Surfaces as a model for the silicon lever atomic force microscope (AFM)

  • E. Kotomin*
  • , A. Shluger
  • , M. Causá
  • , R. Dovesi
  • , F. Ricca
  • *Šī darba korespondējošais autors
  • University of Turin

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

15 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Computer simulation of a 1 :4 SiO monolayer adsorbed on a MgO monatomic slab has been performed by using the CRYSTAL "ab initio" program. The Mg2+ ions have been identified as the preferred adsorption sites. Adsorption energies, geometries and electron densities have been evaluated. Their dependence on the interlayer distance has been considered for investigating the behaviour of the AFM with microfabricated silicon lever in the pressure region of 10-8 N. The AFM topographical images are strongly dependent on the chemical nature of the tip.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)399-406
Lapu skaits8
ŽurnālsSurface Science
Sējums232
Izdevuma numurs3
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 2 jūn. 1990
Ārēji publicēts

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “The adsorption of SiO molecules on MgO Surfaces as a model for the silicon lever atomic force microscope (AFM)”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo