Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

Three-dimensional modelling of dopant transport in gas and melt during FZ silicon crystal growth

Zinātniskās darbības rezultāts: Devums žurnālam › Zinātniskais raksts (žurnālā) › koleģiāli recenzēts

3 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Three-dimensional (3D) steady-state modelling of inert gas flow and dopant transport in a floating zone puller has been carried out for the first time. The obtained results are analyzed regarding their effect on heat and dopant transfer and used to specify the concentration boundary conditions for 3D transient simulations of dopant transport in liquid silicon. The calculated radial resistivity variations in the crystal were compared with experiment.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)157-170
Lapu skaits14
ŽurnālsMagnetohydrodynamics
Sējums51
Izdevuma numurs1
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 2015

OECD Zinātnes nozare

  • 1.3 Fizika un astronomija

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “Three-dimensional modelling of dopant transport in gas and melt during FZ silicon crystal growth”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo