Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

X-ray absorption spectroscopy of Cu-doped WO3 films for use in electrochemical metallization cell memory

Pētījuma izpildes rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

12 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

We have performed the first synchrotron radiation X-ray absorption spectroscopy (EXAFS/XANES) study of the local atomic and electronic structure around Cu and W ions in WO3/Cu/WO3/Si and WO 3/Cu/Si multilayered structures, aimed for the application in the electrochemical metallization cell memory. The influence of low-temperature annealing at 135 °C has been investigated in details, and a structural model of Cu-doped WO3 films is proposed.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)87-91
Lapu skaits5
ŽurnālsJournal of Non-Crystalline Solids
Sējums401
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 1 okt. 2014

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “X-ray absorption spectroscopy of Cu-doped WO3 films for use in electrochemical metallization cell memory”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo