Pāriet uz galveno navigāciju Pāriet uz meklēšanu Pāriet uz galveno saturu

XAS, XRD, AFM and Raman studies of nickel tungstate electrochromic thin films

  • A. Kuzmin
  • , J. Purans*
  • , R. Kalendarev
  • , D. Pailharey
  • , Y. Mathey
  • *Šī darba korespondējošais autors

Pētījuma izpildes rezultāts: Devums žurnālamZinātniskais raksts (žurnālā)koleģiāli recenzēts

62 Atsauces (Scopus)

Kopsavilkums

Systematic studies of nanocrystalline nickel tungstate, NiWO4, thin films were performed by several experimental techniques such as Ni K- and W L1,3-edges X-ray absorption spectroscopy, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, atomic force microscopy and cyclic voltammetry measurements. We found that the NiWO4 thin films exhibit electrochromic properties similar to that of amorphous tungsten trioxide films, but show better structural stability upon multiple colouring/bleaching cycling. It was observed that a nanocrystallinity of the thin films results in strong modifications of the Ni-O and W-O interactions, which affect both local atomic and vibrational structures.

OriģinālvalodaAngļu
Lapas (no-līdz)2233-2236
Lapu skaits4
ŽurnālsElectrochimica Acta
Sējums46
Izdevuma numurs13-14
DOIs
Publikācijas statussPublicēts - 2 apr. 2001

Nospiedums

Uzziniet vairāk par pētniecības tēmām “XAS, XRD, AFM and Raman studies of nickel tungstate electrochromic thin films”. Kopā tie veido unikālu nospiedumu.

Citēt šo